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藍寶石單晶片工業(yè)應用
藍寶石單晶是一種優(yōu)良的多功能材料??梢詮V泛應用于工業(yè),國防和科研等多個領域(如耐高溫紅外窗口)。同時它也是一種用途廣泛的單晶基片材料。是當前藍、紫、白光發(fā)光二極管(LED)和藍光激光器(LD)工業(yè)的先選基片(需要在藍寶石基片上外延氮化鎵膜層),也是重要的超導薄膜基片。除了可以制作Y-系,La-系等高溫超導薄膜外,還可以用于生長新型實用MgB2(二硼化鎂)超導薄膜。
藍寶石單晶片厚度
100um、280um、300um、350um、430um、500um、650um、1mm。
藍寶石單晶片尺寸
2英寸、4英寸、6英寸和切割小塊。
藍寶石單晶片晶向
C向、M向、R向;單拋、雙拋。
R向藍寶石晶片
R向基底生長的不同沉積的硅料外延長晶,被應用于微電子集成電路。此外,在對外延硅生長制膜的過程中,還可以形成高速的集成電路和壓力傳感器。在制作砣、其它超導組件、高阻電阻器、砷化鎵時亦可應用R型基底生長。比A稍難切。
C向藍寶石晶片
C向的藍寶石基底被用于生長III-V與II-VI族沉積薄膜,比如氮化鎵,可以產出藍色的LED產品、激光二極管以及紅外線探測儀的應用。這主要是因為藍寶石晶體沿C軸生長的工藝成熟、成本相對較低、物化性能穩(wěn)定,在C面進行磊晶的技術成熟穩(wěn)定。C軸均有晶光性,其他軸具有負光性;C面為平面,最好切。
M向藍寶石晶片
M面為階梯鋸齒狀,不好切,容易切裂。主要用來生長非極性/半極性面GaN外延薄膜,以提高發(fā)光效率。
A向藍寶石晶片
A向硬度明顯高于C向,具體表現(xiàn)在耐磨,耐刮,硬度高;A面為Z型鋸齒狀面,比較好切;A向基底產生統(tǒng)一的電容率/介質,并且高度絕緣被應用于混合微電子技術中。高溫的超導體可由A型基底長晶產生。
藍寶石單晶片加工
圖案化藍寶石基板(PatternSapphireSubstrate簡稱PSS):以成長(Growth)或蝕刻(Etching)的方式,在藍寶石基板上設計制作出納米級特定規(guī)則的微結構圖案藉以控制LED之輸出光形式,并可同時減少生長在藍寶石基板上GaN之間的差排缺陷,改善磊晶質量,并提升LED內部量子效率、增加光萃取效率。此外,可按客戶要求加工定制藍寶石棱鏡、表鏡、透鏡、孔件、錐臺等各種結構件。