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刻蝕氣體應(yīng)用

東莞市建盟化學(xué)有限公司提供世界知名品牌刻蝕氣體應(yīng)用技術(shù)工藝。刻蝕氣體應(yīng)用包括蝕刻就是把基片上無光刻膠掩蔽的加工表面如氧化硅膜,金屬膜等蝕刻掉,而使有光刻膠掩蔽的區(qū)域保存下來,這樣便在基片表面得到所需要的成像圖形。蝕刻的基本要求是,圖形邊緣整齊,線條清晰,圖形變換差小,且對光刻膠膜及其掩蔽保護的表面無損傷和鉆蝕。蝕刻方式有濕法化學(xué)蝕刻和干法化學(xué)蝕刻。干法蝕刻所用氣體稱蝕刻氣體,通常多為氟化物氣體,例如四氟化碳,三氟化氮,六氟乙烷,全氟丙烷,三氟甲烷等。干法蝕刻由于蝕刻方向性強,工藝控制精確,方便,無脫膠現(xiàn)象,無基片損傷和沾污,所以其應(yīng)用范圍日益廣泛。

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